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    TOF-SIMS測試流程

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    靜態二次離子質譜（TOF-SIMS）主要用于樣品成像、成分定性鑒定; 三維成像、二維成像、質譜。對材料表面、界面的元素、分子結構進行分析，分析深度:表面1-3nm，檢出限：ppm級別。

    制樣要求：

    1、樣品要求無磁性，粉末樣品至少10mg；

    2、塊體樣品尺寸小于1cmx1cmX8mm，最小幾毫米大小；

    3、需要3D圖請選擇，默認沒有;

    4、深度分析具體測試費用與深度、離子有關;

    5、如果測試需要和之前的同條件，送樣務必提供之前測試條件；

    6、正負離子分開測試，測試時間不疊加。



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