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    顯微應(yīng)變測(cè)試

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    顯微應(yīng)變測(cè)試

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    項(xiàng)目介紹

    三維顯微應(yīng)變測(cè)量系統(tǒng)由顯微系統(tǒng)和DIC系統(tǒng)兩個(gè)部分,為試驗(yàn)提供測(cè)量范圍內(nèi)的3D全場(chǎng)的形貌、位移及應(yīng)變等數(shù)據(jù)信息。顯微系統(tǒng)部分配備：雙體式目鏡（M125C，500萬(wàn)像素，75fps），冷熱溫度控制器（-190 - 600℃）。DIC部分配備：工業(yè)相機(jī)（1200萬(wàn)像素30 fps）， 工業(yè)鏡頭（50 mm， 20 W藍(lán)光光源），三腳架（700 DX），云臺(tái) （65 Q），陶瓷標(biāo)定板一套（包含：400 mm * 300 mm、128 * 96 mm、64 * 48 mm編碼型）。

    樣品要求

    1、顯微應(yīng)變測(cè)試樣品需進(jìn)行散斑制作，樣品尺寸建議不超過(guò)20*13mm。具體尺寸可參考國(guó)標(biāo)或行標(biāo)，或者聯(lián)系我們的技術(shù)人員確定。

    項(xiàng)目案例
    常見(jiàn)問(wèn)題
    1、殘余應(yīng)力測(cè)試方法介紹----鉆孔應(yīng)變法

    標(biāo)準(zhǔn)代號(hào)：GB/T 31310-2014 金屬材料 殘余應(yīng)力測(cè)定 鉆孔應(yīng)變法

    原理：利用應(yīng)變采集裝置采集待測(cè)區(qū)域于鉆孔前、后的應(yīng)變變化，結(jié)合標(biāo)定所獲常數(shù)

    來(lái)計(jì)算待測(cè)區(qū)域的殘余應(yīng)力值。

    測(cè)試步驟： 材料標(biāo)定→打磨→粘貼應(yīng)變片及端子→連接測(cè)量裝置→對(duì)中→鉆孔→測(cè)量→計(jì)算

    2、殘余應(yīng)力測(cè)試方法介紹----壓痕法

    標(biāo)準(zhǔn)代號(hào)：GB/T 24179-2009 金屬材料 殘余應(yīng)力測(cè)定 壓痕應(yīng)變法

    原理：利用球形壓痕誘導(dǎo)產(chǎn)生的應(yīng)變?cè)隽縼?lái)求解殘余應(yīng)力。

    測(cè)試步驟： 材料標(biāo)定→打磨→粘貼應(yīng)變片及端子→連接測(cè)量裝置→對(duì)中→打擊→讀數(shù)

    3、殘余應(yīng)力測(cè)試方法----射線法

    標(biāo)準(zhǔn)代號(hào)：GB/T 7704-2017 無(wú)損檢測(cè) X射線應(yīng)力測(cè)定方法

    原理：對(duì)于多晶體材料，宏觀應(yīng)力所對(duì)應(yīng)的的應(yīng)變被認(rèn)為是相應(yīng)區(qū)域里晶格應(yīng)變的統(tǒng)

    計(jì)結(jié)果，本方法便是依據(jù)X射線衍射原理測(cè)定晶格應(yīng)變來(lái)計(jì)算應(yīng)力。

    測(cè)試步驟： 設(shè)備組合/調(diào)試→檢測(cè)面預(yù)處理→對(duì)焦→檢測(cè)→保存/記錄數(shù)據(jù)

    4、殘余應(yīng)力測(cè)試方法----超聲波法

    標(biāo)準(zhǔn)代號(hào)：GB/T 32073-2015 無(wú)損檢測(cè) 殘余應(yīng)力超聲臨界折射縱波檢測(cè)方法

    原理：利用發(fā)射換能器激發(fā)的超聲臨界折射縱波在不同應(yīng)力場(chǎng)下，在接收處的時(shí)間差

    異來(lái)計(jì)算殘余應(yīng)力。

    測(cè)試步驟： 材料標(biāo)定→打磨→組裝/連接測(cè)量設(shè)備→涂抹耦合劑→測(cè)量→讀數(shù)

    5、殘余應(yīng)力測(cè)試方法----全釋放法

    標(biāo)準(zhǔn)代號(hào)：GB/T 31218-2014 金屬材料 殘余應(yīng)力測(cè)定 全釋放應(yīng)變法

    原理：將粘貼好應(yīng)變片的試件進(jìn)行切割，通過(guò)應(yīng)變片采集切割過(guò)程中的釋放應(yīng)變，結(jié)

    合虎克定律，來(lái)計(jì)算殘余應(yīng)力。

    測(cè)試步驟： 粘貼應(yīng)變片→切割試樣→測(cè)量→計(jì)算

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    顯微應(yīng)變測(cè)試

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