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    TOF-SIMS測試流程

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    靜態二次離子質譜(TOF-SIMS)主要用于樣品成像、成分定性鑒定; 三維成像、二維成像、質譜。對材料表面、界面的元素、分子結構進行分析,分析深度:表面1-3nm,檢出限:ppm級別。

    制樣要求:

    1、樣品要求無磁性,粉末樣品至少10mg

    2、塊體樣品尺寸小于1cmx1cmX8mm,最小幾毫米大小;

    3、需要3D圖請選擇,默認沒有;

    4、深度分析具體測試費用與深度、離子有關;

    5、如果測試需要和之前的同條件,送樣務必提供之前測試條件;

    6、正負離子分開測試,測試時間不疊加。



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